標(biao)準模(mo)擬應(ying)變量(liang)校準(zhun)器(qi)頻響(xiang)分(fen)析儀(yi)檢(jian)定裝(zhuang)置(zhi) 詳(xiang)細(xi)說明

標(biao)準模(mo)擬應(ying)變量(liang)校準(zhun)器(qi)作為(wei)力學(xue)應(ying)變量(liang)的電學模(mo)擬標(biao)準，可(ke)代(dai)替(ti)標(biao)準電阻(zu)應(ying)變計產生(sheng)模擬標(biao)準應(ying)變量(liang)，適用於(yu)檢定各(ge)種(zhong)交流供橋(qiao)或直流供橋(qiao)的靜態(tai)電阻(zu)應(ying)變儀(yi)和動(dong)態(tai)電阻(zu)應(ying)變儀(yi)，是(shi)種(zhong)交直(zhi)流兩用的(de)標(biao)準儀(yi)器(qi)。

1.標(biao)準模(mo)擬應(ying)變量(liang)校準(zhun)器(qi)頻響(xiang)分(fen)析儀(yi)檢(jian)定裝(zhuang)置(zhi) 型(xing)號(hao)：DPDR-350

標(biao)準模(mo)擬應(ying)變量(liang)校準(zhun)器(qi)頻響(xiang)分(fen)析儀(yi)檢(jian)定裝(zhuang)置(zhi) 詳(xiang)細(xi)說明

標(biao)準模(mo)擬應(ying)變量(liang)校準(zhun)器(qi)作為(wei)力學(xue)應(ying)變量(liang)的電學模(mo)擬標(biao)準，可(ke)代(dai)替(ti)標(biao)準電阻(zu)應(ying)變計產生(sheng)模擬標(biao)準應(ying)變量(liang)，適用於(yu)檢定各(ge)種(zhong)交流供橋(qiao)或直流供橋(qiao)的靜態(tai)電阻(zu)應(ying)變儀(yi)和動(dong)態(tai)電阻(zu)應(ying)變儀(yi)，是(shi)種(zhong)交直(zhi)流兩用的(de)標(biao)準儀(yi)器(qi)。

“校(xiao)準(zhun)器(qi)"線(xian)路(lu)設(she)計為(wei)對稱型(xing)結(jie)構(gou)，所(suo)采用的(de)電阻(zu)元件(jian)為(wei)密交(jiao)直(zhi)流電阻(zu)器(qi)，其(qi)阻(zu)值密、穩(wen)定，並(bing)具有良(liang)好的(de)頻特性，受(shou)外界(jie)磁(ci)場(chang)、溫度(du)、濕度(du)影(ying)響小(xiao)。測量(liang)開關選用輕壓(ya)力(li)刷形鍍(du)金(jin)開關，定位(wei)準(zhun)確，接(jie)觸優良(liang)。

“校(xiao)準(zhun)器(qi)" 具有“半(ban)橋(qiao)"和“橋"能(neng)，可(ke)根(gen)據(ju)具體(ti)情(qing)況(kuang)，方(fang)便地(di)選擇(ze)不同(tong)橋路(lu)的(de)連(lian)接(jie)

測(ce)量(liang)範圍：（0.1～100000）με

頻率(lv)範圍： 0～100kHz

允(yun)許誤差(cha)：±(0.05%red±0.2με)

靈(ling)敏系(xi)數(shu)： K=2.00

橋(qiao)臂(bi)電阻(zu)： 350Ω

橋(qiao)臂(bi)不對稱性：≤20με

作電壓：12V

儀(yi)器(qi)尺寸：（420×270×130）mm

儀(yi)器(qi)重量(liang)：5.1kg

標(biao)準模(mo)擬應(ying)變量(liang)校準(zhun)器(qi)檢定規(gui)程 JJG 533-2007

電阻(zu)應(ying)變儀(yi)計量(liang)檢定規(gui)程JJG 623-2005

2.浸(jin)漬提拉塗(tu)膜機 提拉機 型(xing)號(hao)：DP-SYDC-200

. 產(chan)品應(ying)用
        本(ben)產(chan)品主(zhu)要用於(yu)溶膠-凝(ning)膠法等液相(xiang)法制(zhi)備(bei)薄(bo)膜材料(liao)。把(ba)潔(jie)凈(jing)幹燥(zao)的基片(pian)浸(jin)入(ru)溶液中(zhong)，通過(guo)預(yu)設(she)置(zhi)的(de)浸(jin)漬時間(jian)、提(ti)拉速(su)度(du)、提拉度(du)、鍍(du)膜次數(shu)等參數(shu)，將(jiang)浸(jin)漬後的(de)基(ji)片以(yi)定速(su)度(du)慢慢提(ti)拉(la)起來，在(zai)基片(pian)的表(biao)面(mian)形(xing)成(cheng)層納(na)米(mi)級的(de)薄膜。膜(mo)層(ceng)厚(hou)度由提(ti)拉速(su)度(du)，液體(ti)濃(nong)度(du)和液體(ti)粘(zhan)度決(jue)定。
        采用溶膠-凝(ning)膠法鍍膜(mo)，隨著基(ji)片從(cong)溶膠中(zhong)提拉(la)出來(lai)，在基片(pian)上(shang)附(fu)著層膜，稱為(wei)“濕凝(ning)膠膜"，隨著“濕(shi)凝(ning)膠膜"膜層(ceng)中(zhong)溶劑(ji)的揮(hui)發，膜(mo)層在基片上(shang)固(gu)化(hua)成(cheng)為(wei)“幹凝(ning)膠膜"。“幹凝(ning)膠膜"經(jing)過步(bu)的幹燥(zao)及(ji)溫(wen)熱處(chu)理便(bian)得(de)到所(suo)需的(de)納米(mi)薄膜(mo)材料(liao)。

二(er). 產(chan)品簡(jian)介(jie)
        浸(jin)漬提拉鍍膜機是為(wei)液相(xiang)（特別是(shi)sol-gel法）制備(bei)薄(bo)膜材料(liao)的(de)研(yan)究作而設(she)計，對不同(tong)液體(ti)通(tong)過(guo)浸(jin)漬提拉生(sheng)長薄膜(mo)。提拉(la)速(su)度(du)、提拉度(du)、浸(jin)漬時間(jian)、鍍(du)膜次數(shu)（多次(ci)多層(ceng)鍍(du)膜）、鍍(du)膜間(jian)隔時間(jian)均(jun)連(lian)續(xu)可調(tiao)、密控制。對(dui)鍍(du)膜基質無(wu)特殊(shu)要求(qiu)，片狀、塊狀、圓柱狀等均(jun)可(ke)鍍(du)膜(mo)。運行穩(wen)定、作時液面(mian)無(wu)振(zhen)動(dong)，可(ke)大(da)提(ti)實驗(yan)度(du)與(yu)實(shi)驗(yan)效(xiao)率(lv)。
        適(shi)用於(yu)矽(gui)片、晶(jing)片、玻(bo)璃、陶瓷(ci)、金(jin)屬等所(suo)有固(gu)體(ti)材料(liao)表(biao)面(mian)塗(tu)覆藝(yi)。應(ying)用於(yu)科學研(yan)究、產品生(sheng)產。

三. 產品特點
1. C4級密傳動(dong)裝(zhuang)置(zhi)；
2. 關(guan)鍵(jian)零(ling)件來自中(zhong)中(zhong)國臺(tai)灣及(ji)日(ri)本口(kou)；
3. 多參數(shu)自(zi)動(dong)控制；提(ti)拉(la)速(su)度(du)連續(xu)可調(tiao)；
4. 4.3寸(cun)液(ye)晶(jing)觸摸(mo)屏使(shi)控制更(geng)方(fang)便；
5. 、低速(su)均(jun)運(yun)行平(ping)穩(wen)，無(wu)振(zhen)動(dong)，使(shi)成(cheng)膜更(geng)均(jun)勻(yun)；

四. 術(shu)參數(shu)

1.提(ti)拉(la)速(su)度(du)範圍：1～8000 μm/s，小分辨率(lv)1μm/s；
2.速(su)度(du)度：-0.02%～+0.02%
3.行程(cheng)：約(yue)260 mm
4.可(ke)鍍(du)膜(mo)基片尺寸：MIN 10×10 mm，MAX 200×200 mm，厚度MAX 10mm；
5.浸(jin)漬時間(jian)：1～3600 s，小(xiao)分辨率(lv)1s；
6.循環鍍(du)膜次(ci)數(shu)：1～1000次(ci)，少(shao)1次；
7.每次鍍膜(mo)間(jian)隔時間(jian)：1～3600 s，小(xiao)分辨率(lv)1s；
8.電源：220V/50Hz

3.電化(hua)學(xue)分析儀(yi)   型(xing)號(hao)；DP-LK1100

術(shu)標(biao)
控制電位(wei)：-3.2V～+3.2V
電流：-50mA～+50mA
輸(shu)出電壓(槽(cao)壓): -12V～+12V
參比(bi)電輸入(ru)阻(zu)抗(kang)：>10 Ω
大(da)掃描(miao)速(su)度(du)：4000mV/S
小(xiao)掃描(miao)速(su)度(du)：2.5×10 mV/S
電位(wei)分(fen)辨率(lv)：0.1mV
電流分辨率(lv)：15pA
儀(yi)器(qi)尺寸：28cm×30cm×10cm(寬×深×)
電流靈(ling)敏度量(liang)程：±50mA、±5mA、±500μA、±50μA、±5μA、±500nA

可(ke)提(ti)供(gong)電化(hua)學(xue)方(fang)法
循環伏(fu)安(an)法(CV)、線(xian)性(xing)掃描(miao)伏(fu)安(an)法(LSV)、線(xian)性(xing)掃描(miao)溶出伏(fu)安(an)法、電流—時間(jian)曲(qu)線(xian)(I-T)、計時電流法(CA)、計時電量(liang)法(CC)、掃描(miao)—階(jie)躍混合方(fang)法(SSF)、多電位(wei)階(jie)躍方(fang)法(STEP)。

4.表(biao)面(mian)溫(wen)度計/表(biao)面(mian)溫(wen)度儀(yi)  型(xing)號(hao):DP-905-T2

產(chan)品介(jie)紹：

口(kou)袋系(xi)列(lie)儀(yi)器(qi)，帶可(ke)旋(xuan)轉的(de)顯(xian)示屏(ping)，易(yi)於(yu)讀數(shu)。

 905-T2 是(shi)個革新(xin)，這(zhe)個表(biao)面(mian)溫(wen)度計價格(ge)很(hen)低但質量(liang)，帶彈(dan)性熱(re)電偶(ou)探(tan)頭(tou)，響(xiang)應(ying)快、度(du)，並(bing)且(qie)彈(dan)性面(mian)還(hai)能(neng)適(shi)於(yu)非平整(zheng)表(biao)面(mian)測(ce)量(liang)。

優(you)勢(shi)覽(lan)：

· 響(xiang)應(ying)快

· 度(du)

· 彈(dan)性熱(re)電偶(ou)，十字(zi)測量(liang)頭適(shi)合(he)於(yu)何表(biao)面(mian)

· 帶(dai)可(ke)旋(xuan)轉的(de)顯(xian)示屏(ping)，易(yi)於(yu)讀數(shu)

· 易(yi)於(yu)操作

· 自(zi)動(dong)關(guan)機能(neng)

術(shu)參數(shu)：

5.電動(dong)脫(tuo)模(mo)器(qi)   型(xing)號(hao)；DP-DTM-2

DTM-2電動(dong)脫(tuo)模(mo)器(qi)（另供(gong)應(ying)：液壓(ya)脫模器(qi)、手動(dong)脫(tuo)模(mo)器(qi)），此電動(dong)脫(tuo)模(mo)器(qi)為(wei)可用於(yu)直徑為(wei)50mm,100mm,101.6mm,150mm,152mm度為(wei)230mm以(yi)內的(de)各(ge)種(zhong)試模(mo)內試(shi)件脫模。脫(tuo)模(mo)器(qi)絲杠大(da)脫模力：150KN。更(geng)適合(he)脫(tuo)水(shui)泥(ni)穩定碎(sui)石(shi)模(mo)用。儀(yi)器(qi)采用液(ye)壓(ya)油(you)缸,力量(liang)大使(shi)用穩(wen)定方(fang)便等優點(dian)。
主(zhu)要術(shu)參數(shu)：
1、脫(tuo)模(mo)器(qi)絲杠上(shang)升(sheng)速(su)度(du)：70mm/min
2、脫(tuo)模(mo)器(qi)絲杠下(xia)降(jiang)速(su)度(du)：70mm/min
3、脫(tuo)模(mo)器(qi)絲杠移(yi)動(dong)距離：240mm
4、脫(tuo)模(mo)器(qi)絲杠上(shang)升(sheng)限距離：(L)270mm
5、脫(tuo)模(mo)器(qi)絲杠下(xia)降(jiang)距離：(L)30mm
6、脫(tuo)模(mo)器(qi)絲杠脫(tuo)模力：150KN
8、電源電壓：380V～750W
9、升(sheng)力(li)：200KN
10、凈(jing)重≈100Kg

 註：頁(ye)面(mian)價(jia)格(ge)只(zhi)是(shi)配件(jian)價格(ge)或(huo)產(chan)品庫(ku)存數(shu)量(liang)，並(bing)非(fei)產(chan)品價(jia)格(ge)  具體(ti)價(jia)格(ge)面(mian)議  如給您(nin)帶(dai)來不便請諒解